便于调节间距的半导体沉积结构

摘要

本实用新型提供一种便于调节间距的半导体沉积结构，至少包括加热底盘、位于所述加热底盘上方的容器盖、以及连接于所述容器盖底部的若干喷气组件；所述喷气组件包括设有空腔的喷气头、连通所述空腔并设置在所述喷气头下表面的若干喷气孔、连通所述空腔并设置在所述喷气头上表面的供气管以及均匀设置在该喷气头上表面用于固定且高度可调的三根连接件；所述连接件顶部固定于所述容器盖底部；所述加热底盘和所述喷气头之间还包括具有标准厚度的间距校准平板。本实用新型的便于调节间距的半导体沉积结构包括间距校准平板，使间距的调节简单易行，且精确度高，并可配置多个不同厚度的间距校准平板，使用时根据工艺要求选择相应的间距校准平板。

主权项

一种便于调节间距的半导体沉积结构，其特征在于：所述半导体沉积结构至少包括加热底盘、位于所述加热底盘上方的容器盖、以及连接于所述容器盖底部的若干喷气组件；所述喷气组件包括设有空腔的喷气头、连通所述空腔并设置在所述喷气头下表面的若干喷气孔、连通所述空腔并设置在所述喷气头上表面的供气管以及均匀设置在该喷气头上表面用于固定且高度可调的三根连接件；所述连接件顶部固定于所述容器盖底部；所述加热底盘和所述喷气头之间还包括具有标准厚度的间距校准平板。