发明名称 |
冷腔壁条件下化学气相沉积制备石墨烯的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种冷腔壁条件下化学气相沉积制备石墨烯的方法,其具体步骤如下:1)将衬底放置在具有循环水冷却的密闭腔体中,腔壁的温度控制为室温至100℃;2)通入载气并加热衬底;3)持续通入含碳源气体5秒至30分钟;4)衬底冷却后,衬底表面可生成石墨烯。相比较目前广泛使用的热腔壁化学气相沉积法,冷腔壁化学气相沉积法加热区域只限制在衬底部位,而腔体的其他部位得到冷却,可以减少含碳源气体分解量和精确控制石墨烯的生长厚度,以至碳能够以单原子层的形式沉积在衬底表面生成单层石墨烯。本发明制备的石墨烯具有均匀性好,面积大,缺陷少,导电性能优异,机械性能好等优点。 |
申请公布号 |
CN102001650B |
申请公布日期 |
2013.05.29 |
申请号 |
CN201010608306.7 |
申请日期 |
2010.12.28 |
申请人 |
上海师范大学 |
发明人 |
黄磊;常全鸿;纪乐春;刘洋;郭桂略;王涛 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01)I;C01B31/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 |
上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 |
代理人 |
张美娟 |
主权项 |
冷腔壁条件下化学气相沉积制备石墨烯的方法,其特征在于:其具体步骤如下:1)将衬底放置在具有循环水冷却的密闭腔体中,腔壁的温度控制为室温至100℃;2)同时通入载气和还原性气体并加热衬底;所述的还原性气体为氢气;3)持续通入含碳源气体5秒至30分钟;4)衬底冷却后,衬底表面可生成石墨烯。 |
地址 |
200234 上海市徐汇区桂林路100号 |