发明名称 冷腔壁条件下化学气相沉积制备石墨烯的方法
摘要 本发明公开了一种冷腔壁条件下化学气相沉积制备石墨烯的方法,其具体步骤如下:1)将衬底放置在具有循环水冷却的密闭腔体中,腔壁的温度控制为室温至100℃;2)通入载气并加热衬底;3)持续通入含碳源气体5秒至30分钟;4)衬底冷却后,衬底表面可生成石墨烯。相比较目前广泛使用的热腔壁化学气相沉积法,冷腔壁化学气相沉积法加热区域只限制在衬底部位,而腔体的其他部位得到冷却,可以减少含碳源气体分解量和精确控制石墨烯的生长厚度,以至碳能够以单原子层的形式沉积在衬底表面生成单层石墨烯。本发明制备的石墨烯具有均匀性好,面积大,缺陷少,导电性能优异,机械性能好等优点。
申请公布号 CN102001650B 申请公布日期 2013.05.29
申请号 CN201010608306.7 申请日期 2010.12.28
申请人 上海师范大学 发明人 黄磊;常全鸿;纪乐春;刘洋;郭桂略;王涛
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C01B31/04(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人 张美娟
主权项 冷腔壁条件下化学气相沉积制备石墨烯的方法,其特征在于:其具体步骤如下:1)将衬底放置在具有循环水冷却的密闭腔体中,腔壁的温度控制为室温至100℃;2)同时通入载气和还原性气体并加热衬底;所述的还原性气体为氢气;3)持续通入含碳源气体5秒至30分钟;4)衬底冷却后,衬底表面可生成石墨烯。
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