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经营范围
发明名称
Method and apparatus for heat treatment of semiconductor films
摘要
申请公布号
EP1271620(B1)
申请公布日期
2013.05.29
申请号
EP20010420142
申请日期
2001.06.21
申请人
KIM, HYOUNG JUNE
发明人
KIM, HYOUNG JUNE
分类号
H01L21/67;H05B6/10;C30B25/10;H01L21/00;H01L21/20;H01L21/268;H01L21/336;H01L29/786
主分类号
H01L21/67
代理机构
代理人
主权项
地址
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