发明名称 |
一种多次曝光方法 |
摘要 |
本发明属于CMOS图像传感器技术领域,涉及一种像素结构,包括光电二极管、传输管、浮空扩散区、复位晶体管、源极跟随器、选通管和电荷泄放晶体管OF,电荷泄放晶体管的漏极接电源电压VDD,源极接到光电二极管的负极,通过栅压来控制光电二极管中光生电荷的泄放程度。本发明同时提供一种利用此种像素结构实现的多次曝光方法。本发明能够实现多次曝光信号的像素内叠加,省去了多次读出再融合的数字电路部分,从而提高了CMOS图像传感器动态范围。 |
申请公布号 |
CN102595059B |
申请公布日期 |
2013.05.22 |
申请号 |
CN201210045638.8 |
申请日期 |
2012.02.27 |
申请人 |
天津大学 |
发明人 |
姚素英;高志远;徐江涛;高静;徐超;高岑 |
分类号 |
H04N5/355(2011.01)I;H04N5/374(2011.01)I;H04N5/369(2011.01)I |
主分类号 |
H04N5/355(2011.01)I |
代理机构 |
天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 |
代理人 |
程毓英 |
主权项 |
一种多次曝光方法,该方法能够在一次曝光周期内实现多次曝光,所适用的像素结构包括光电二极管PD、传输管、浮空扩散区FD、复位晶体管、源极跟随器、选通管和电荷泄放晶体管OF,其中,电荷泄放晶体管OF的漏极接电源电压VDD,源极接到光电二极管的负极,通过栅压来控制光电二极管中光生电荷的泄放程度;设图像传感器需要进行N次长短不同的曝光,其特征在于,包括下列步骤:首先将传输管栅压置为电源电压,使其导通,PD得到复位;将传输管栅电压置为0v,开始一次曝光周期的曝光;按照所需多次曝光的曝光时间长短先后进行操作,第一次操作,将OF的栅电压置为V1,维持时间是第一次所需曝光的曝光时间t1;第二次操作将OF的栅电压置为V2,维持时间是第二次所需曝光的曝光时间t2;以后各次曝光均如此进行,直至第N次曝光,将OF的栅电压置为VN,维持时间是第N次所需曝光的曝光时间tN;从V1到VN,满足以下关系,V1>V2>……>VN,VN=0;t1到tN满足以下关系,t1>t2>……>tN,t1、t2、……tN的和为总的曝光周期的时间,待所有N次操作都结束,传输管栅压置为电源电压使其再次导通,PD内电荷流出,即曝光结束,再进行帧读出的操作。 |
地址 |
300072 天津市南开区卫津路92号 |