发明名称 COPPER STRIKE PLATING METHOD
摘要 <p>표면에 탈지 처리 및 전해 활성 처리를 실시한 이후에 열처리한 동 합금으로 이루어진 기판의 표면에 동 스트라이크 도금을 실시할 때, 동 스트라이크 도금에서는 결정면(crystal plane)으로서 기판의 표면 상에 형성된 동 스트라이크 도금층의 X선 회절 강도가 최대값을 나타내는 결정면이 동으로 이루어진 금속 결정이 가장 치밀하게 충전된 동층(copper layer)의 X선 회절 강도가 최대값을 나타내는 (111) 면에 대응하도록 기판의 표면 상에 동 금속(copper metal)이 석출되는 극측(polarity side) 상에만 일련의 펄스 형상의 펄스 전류(pulse current)가 기판에 인가된다.</p>
申请公布号 KR101264830(B1) 申请公布日期 2013.05.20
申请号 KR20060049863 申请日期 2006.06.02
申请人 发明人
分类号 C25D5/00;C25D5/18 主分类号 C25D5/00
代理机构 代理人
主权项
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