| 发明名称 | 基板处理设备及基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：腔室，设置在所述腔室内用于支撑基板的支撑部件，和用于将所述腔室的内部空间中的气体排放到所述腔室的外部的排放部件。在所述排放部件内限定有用于收集包含在所述气体中的烟气的捕捉空间。 | ||
| 申请公布号 | CN103094159A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
| 申请号 | CN201210426106.9 | 申请日期 | 2012.10.30 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 姜云圭;金成彦 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;F26B25/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种基板处理设备，其特征在于，包括：腔室；支撑部件，所述支撑部件设置在所述腔室内用于支撑基板；和排放部件，所述排放部件用于将所述腔室的内部空间中的气体排放到所述腔室的外部，其中在所述排放部件内限定有用于收集包含在所述气体中的烟气的捕捉空间。 | ||
| 地址 | 韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑毛枾里278 | ||