发明名称 |
一种光刻版结构 |
摘要 |
本发明提供了一种光刻版结构,包括:外框区域以及图案区域;其中,所述外框区域布置在所述图案区域外周从而包围所述图案区域;其中,所述图案区域用于布置集成电路图案;并且,所述外框区域的四个边分别布置了一个或者多个拨片,而且,所述拨片能够在其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上滑动;而且,在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上放置了多个对准标记图案。每个拨片的多个对准标记图案中的至少一部分具有不同图案。本发明通过采用光刻版对准标记的新型结构设计,实现在同一块光刻版上同一位置可以切换不同光刻机所需要的对准标记图案,从而解决不同厂家光刻机在匹配时共用光刻版的标记冲突问题。 |
申请公布号 |
CN103091974A |
申请公布日期 |
2013.05.08 |
申请号 |
CN201310062258.X |
申请日期 |
2013.02.27 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
郑刚;陈力钧;朱骏;张旭升 |
分类号 |
G03F1/42(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/42(2012.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
陆花 |
主权项 |
一种光刻版结构,其特征在于包括:外框区域以及图案区域;其中,所述外框区域布置在所述图案区域外周从而包围所述图案区域;其中,所述图案区域用于布置集成电路图案;并且,所述外框区域的四个边分别布置了一个或者多个拨片,而且,所述拨片能够在其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上滑动;而且,在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上放置了多个对准标记图案。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号 |