一种光学成像器件结构

摘要

本发明公开了一种光学成像器件结构，该结构是由多个结构完全相同的成像器件构成的成像阵列，该多个成像器件被分为若干组，每一组中的成像器件具有相同的数目和相同的排列结构，且每组成像器件均包括一个参考单元和至少一个成像单元，该参考单元和成像单元是结构完全相同的成像器件，每组成像器件中的参考单元和成像单元相距近，工艺偏差小，在执行复位、成像、读取操作时受到的共模干扰相同。本发明通过略微增加光学传感器内部成像器件的面积，避免了工艺失配、复位、成像和读取操作引入的共模噪声和非线性影响，获得了更加接近实际的光学信息。

主权项

一种光学成像器件结构，其特征在于，该结构是由多个结构完全相同的成像器件构成的成像阵列，该多个成像器件被分为若干组，每一组中的成像器件具有相同的数目和相同的排列结构，且每组成像器件均包括一个参考单元和至少一个成像单元，该参考单元和成像单元是结构完全相同的成像器件，每组成像器件中的参考单元和成像单元相距近，工艺偏差小，在执行复位、成像、读取操作时受到的共模干扰相同；其中，所述成像器件是基于传统的浮栅型成像器件结构，由硅衬底(B)、源极(S)、漏极(D)、浮动栅极(FG)、控制栅极(CG)构成，其中，硅衬底(B)位于器件最下层；源极(S)和漏极(D)位于硅衬底(B)上，且相距一定距离；浮动栅极(FG)位于器件结构的中间层，在硅衬底之上，且在源极(S)和漏极(D)之间；控制栅极(CG)位于器件结构的最上层，在浮动栅极(FG)之上；该硅衬底(B)与该浮动栅极(FG)之间，以及该浮动栅极(FG)与该控制栅极(CG)之间都采用绝缘层隔离。