发明名称 一种垂直阵列ZnO纳米线的制备方法
摘要 本发明涉及一种垂直阵列ZnO纳米线的制备方法,属于纳米线制备方法领域。该方法的工艺步骤如下:(1)制备前驱溶液:向反应容器中加入去离子水,然后加入锌盐和聚乙烯亚胺,在室温、常压下搅拌0.5~3h,得前驱溶液;(2)超过滤:对前驱溶液进行超过滤;(3)旋涂:将步骤(2)截留所得溶液滴加到基底上,然后以500~3000rpm的转速涂胶;(4)热处理:①将涂胶后的基底在常压、氧气氛围、400~600℃保温30~120min,保温时间届满后,将基底自然冷却至室温,②将步骤①处理后的基底在常压、氧气氛围、800~1000℃下保温1~10min,保温时间届满后,将基底自然冷却至室温,③将步骤②处理后的基底在100~3000Pa、氧气氛围、400~600℃的条件下保温5~30min。
申请公布号 CN103043707A 申请公布日期 2013.04.17
申请号 CN201310012701.2 申请日期 2013.01.14
申请人 四川大学 发明人 向钢;任红涛;张析
分类号 C01G9/02(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C01G9/02(2006.01)I
代理机构 成都科海专利事务有限责任公司 51202 代理人 黄幼陵;马新民
主权项 一种垂直阵列ZnO纳米线的制备方法,其特征在于工艺步骤如下:(1)制备前驱溶液向反应容器中加入去离子水,然后加入锌盐和聚乙烯亚胺,在室温、常压下搅拌0.5~3h,得前驱溶液;所述锌盐、去离子水及聚乙烯亚胺的量以锌盐中的锌、去离子水、聚乙烯亚胺的质量比达到1:400:20~1:80:4为限;(2)超过滤将步骤(1)所得前驱溶液进行超过滤,超过滤时间以分离不出液体为限;(3)旋涂将步骤(2)截留所得溶液在200~1000rpm的转速下滴加到基底上,然后以500~3000rpm的转速涂胶10~60s;(4)热处理①将步骤(3)所得涂胶后的基底在常压、氧气氛围、400~600℃条件下保温30~120min,保温时间届满后,将所述基底自然冷却至室温,②将步骤①处理后的基底在常压、氧气氛围、800~1000℃条件下保温1~10min,保温时间届满后,将所述基底自然冷却至室温,③将步骤②处理后的基底在100~3000Pa、氧气氛围、400~600℃的条件下保温5~30min。
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