一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法

摘要

本发明涉及一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在白炽灯照射下基板表面无肉眼可见的污染物为止；将擦拭后的基板置于第一槽碱性溶液，分别用不同频率对基板先后进超声清洗；将所得基板放置于第二槽中，用去离子水喷淋；将基板放置于第三槽去离子水中，分别在不同频率下先后超声3～6分钟，在白炽灯下观测基板表面洁净度，无肉眼可见颗粒后将基板放置于第四槽去离子水中在80KHz超声下进行慢提拉，用热吹风将提拉后的基板干燥，即得到所需产品。本发明将清洗过程与表面检测结合起来，将擦拭法、化学清洗法、超声波清洗法结合起来综合运用，以达到清洗效率高而又对基板光滑表面损伤小的最优清洗效果。

主权项

一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，其特征在于具体步骤如下： （1）用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在80W白炽灯照射下光学基板表面无肉眼可见的颗粒、指印及油迹为止；（2）将擦拭后的光学基板置于第一清洗槽的碱性溶液中，所述碱性溶液配比为NH4OH：H2O2：H2O的体积比为1:10:50，分别用20KHz、80KHz、120KHz的频率对光学基板先后进行2～4分钟的超声清洗，超声结束后以5mm/s速度将光学基板提拉出碱性溶液；(3)将步骤(2)所得的光学基板放置于第二清洗槽的去离子水中，漂洗；(4)将步骤(3)所得的光学基板放置于第三清洗槽的去离子水中，分别在20KHz、80KHz、120KHz频率下先后超声3～6分钟，超声结束后以5mm/s速度将光学基板从第三清洗槽中提拉出来，运用150W白炽灯观测光学基板表面洁净度，若无肉眼可见颗粒即可进入下一步骤，否则重新放入水中重复本步骤清洗； (5)将步骤(4)所得光学基板放置于第四清洗槽的去离子水中，在80KHz超声下进行慢提拉，提拉速度为2mm/s，用热吹风将提拉后的光学基板干燥。