| 发明名称 | 用于清洁离子源的至少一个表面的方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于清洁质谱仪中的离子源的表面的方法和设备，例如是MALDI离子源的电极。该方法包括将UV光投向到表面上以使杂质材料去吸附。UV光源可以是激光器，并且可使用移动的反射表面将光投向到表面上。 | ||
| 申请公布号 | CN103053006A | 申请公布日期 | 2013.04.17 |
| 申请号 | CN201180037797.7 | 申请日期 | 2011.07.28 |
| 申请人 | 奎托斯分析有限公司 | 发明人 | 约翰·艾利森 |
| 分类号 | H01J49/16(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I | 主分类号 | H01J49/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种清洁质谱仪中的用于产生样品材料离子的离子源的至少一个表面的方法，其中所述方法包括：将UV光投向到所述离子源的所述至少一个表面上，从而使杂质材料从所述至少一个表面去吸附。 | ||
| 地址 | 英国曼彻斯特 | ||