| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer optional freistehenden Schicht, die gegebenenfalls mindestens einen Lichtwellenleiter aufweist, umfassend folgende Schritte: a) Mischen zumindest eines endständige Hydroxylgruppen aufweisenden Organopolysiloxans mit zumindest einem Alkoxysilan, das eine kovalent gebundene funktionelle Gruppe aufweist, die nicht mit den Hydroxylgruppen reagiert und durchBestrahlen mit einer identen Gruppe eine Polymerisationsreaktion eingeht, sowie optional eines Fotoinitiators und gegebenenfalls eines Katalysators, um eine flüssige Mischung zu erstellen; b) optional Behandeln der so erstellten Mischung zur Kondensation des Organopolysiloxans mit dem Alkoxysilan; c) Aufbringen der Mischung auf ein Substrat zur Bildung der Schicht; d) optional Wärmebehandeln der Schicht; e) gegebenenfalls Bestrahlen der Schicht, um den zumindest einen Lichtwellenleiter auszubilden. Mit einem derartigen Verfahren kann eine gegebenenfalls freistehende Schicht erstellt werden, die eine hohe optische Transparenz, chemische und thermische Stabilität, eine hohe Flexibilität und gute Lagerbarkeit aufweist. Darüber hinaus kann in der Schicht zumindest ein Lichtwellenleiter ausgebildet werden, wobei ein Fotostrom auch nachlängerer Lagerung steigt oder zumindest konstant bleibt. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Schicht sowie ein Substrat mit einer solchen Schicht. |
