基板处理装置

摘要

本发明涉及能够稳定执行对基板的表面处理，可以减少用于所述基板表面处理的药液使用量的基板处理装置。为此，本发明所提供的基板处理装置包括：多个输送辊，旋转的同时对基板进行输送且用于使得所述基板的下面被药液浸湿；多个药液供应槽，用于盛放所述药液，设置在所述多个输送辊的各自下部且相间隔而布置；主容器，围绕所述多个药液供应槽；排气单元，用于吸入在所述药液浸湿所述基板的下面的过程中所产生的烟气（fume）和所述药液的液滴。

主权项

一种基板处理装置包括：多个输送辊，为了在输送基板的同时使得所述基板的下面被药液浸湿而旋转；多个药液供应槽，用于盛放所述药液，设置在所述多个输送辊的各自下部且相间隔而布置；主容器，围绕所述多个药液供应槽；以及排气单元，吸入所述药液被浸湿到所述基板的下面的过程中所产生的烟气和所述药液的液滴而进行排气。