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发明名称
汽相沉积装置及汽相沉积方法
摘要
本发明之汽相沉积装置系在比喷洒板之对向于基板保持构件之区域更外侧,且在喷洒头与喷洒板之接面之间配设空间,在喷洒板之配设有空间之区域部份设置与反应室内连通之复数个贯通孔,通过贯通孔导入冲洗气体。藉此,使存在于非加热区域部之喷洒板表面之原料气体流向气体排出口侧,进而可使角部不易产生滞留区域。因此,可减少形成于喷洒板表面之生成物,确保被处理基板上之膜均一性及膜再现性。
申请公布号
TWI391519
申请公布日期
2013.04.01
申请号
TW099122028
申请日期
2010.07.05
申请人
夏普股份有限公司 日本
发明人
冈田俊范;采山和弘;坂上英和;坪井俊树
分类号
C23C16/54;C23C16/455
主分类号
C23C16/54
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼;林宗宏 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
日本
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