| 发明名称 | 氧化物薄膜晶体管、阵列基板及显示装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供氧化物薄膜晶体管、阵列基板及显示装置，涉及显示技术领域，能够简化制造工艺、降低成本，进一步地，提高阵列基板的产能、良品率及稳定性。氧化物薄膜晶体管包括设置于基板上的栅极、栅绝缘层、源极、漏极，源极和漏极之间形成有沟道，还包括：设置于沟道内的氧化物有源层，其中，氧化物有源层与源极、漏极接触。 | ||
| 申请公布号 | CN202839622U | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN201220539037.8 | 申请日期 | 2012.10.19 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 段献学;白明基 |
| 分类号 | H01L29/786(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G09F9/33(2006.01)I;G09F9/35(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/786(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种氧化物薄膜晶体管，包括设置于基板上的栅极、栅绝缘层、源极、漏极，所述源极和漏极之间形成有沟道，其特征在于，还包括：设置于所述沟道内的氧化物有源层，其中，所述氧化物有源层与所述源极、漏极接触。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||