发明名称 大流量流体输送装置
摘要 本发明是一种大流量流体输送装置,用以传送流体,其包含:阀体座,具有至少一密封环;阀体盖体,设置于阀体座上,且具有至少一密封环;阀体薄膜,设置于阀体座及阀体盖体之间,并具有至少一个阀开关结构,阀开关结构分别具有阀片、多个孔以及多个延伸部;致动装置,其包含致动器以及振动薄膜,振动薄膜于未作动状态时,是与阀体盖体分离,以形成压力腔室;当施以操作频率大于30Hz于致动装置的致动器上,致动装置将致使压力腔室体积改变,进而驱动阀开关结构的启闭作用,以使流经压力腔室的流体达到60ml/min以上的大流量传输。
申请公布号 CN101520041B 申请公布日期 2013.03.20
申请号 CN200810082551.1 申请日期 2008.02.26
申请人 研能科技股份有限公司 发明人 陈世昌;张英伦;余荣侯;邱士哲
分类号 F04B53/10(2006.01)I;F04B43/04(2006.01)I 主分类号 F04B53/10(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 喻学兵
主权项 一种大流量流体输送装置,用以传送一流体,其包含:一阀体座,其设置有一凹槽和部份突出于该凹槽的一密封环;一阀体盖体,其设置于该阀体座上,且设置有一凹槽和部份突出于该凹槽的一密封环;一阀体薄膜,其设置于该阀体座及该阀体盖体之间,并具有一第一阀门结构及一第二阀门结构,该第一阀门结构及该第二阀门结构分别具有一阀片、多个孔以及多个延伸部,该多个孔是环绕阀片周边设置,多个延伸部是与该阀片连接且设置于该多个孔之间;该阀体座的该凹槽内的该密封环与该阀体薄膜的该第一阀门结构顶触用以施予一预作用力;该阀体盖体的该凹槽内的该密封环与该阀体薄膜的该第二阀门结构顶触用以施予一预作用力;以及一致动装置,其包含一致动器以及一振动薄膜,该振动薄膜于未作动状态时,是与该阀体盖体分离,以形成一压力腔室;其中,当施以操作频率大于30Hz于该致动装置的该致动器上,该致动装置将致使该压力腔室体积改变,进而驱动该第一阀门结构和该第二阀门结构的启闭作用,以使流经该压力腔室的该流体是达到60ml/min以上的大流量传输。
地址 中国台湾新竹市科学园区研发二路28号1楼