发明名称 |
倾斜结构体、倾斜结构体的制造方法、及分光传感器 |
摘要 |
本发明涉及倾斜结构体、倾斜结构体的制造方法、及分光传感器。所述倾斜结构体的制造方法包括:工序(a),在基板的上方形成牺牲膜;工序(b),形成第一膜,所述第一膜包括与基板连接的第一部分、位于牺牲膜的上方的第二部分、位于第一部分及第二部分之间的第三部分,并且第三部分的一部分、或者在第二部分和第三部分的边界部分处,具有与第一部分相比膜厚较薄的区域;工序(c),去除牺牲膜;工序(d),在工序(c)之后,在膜厚较薄的区域处使第一膜弯曲,并使第一膜的第二部分相对于基板而倾斜。 |
申请公布号 |
CN102955187A |
申请公布日期 |
2013.03.06 |
申请号 |
CN201210293203.5 |
申请日期 |
2012.08.16 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
吉澤隆彦 |
分类号 |
G02B5/20(2006.01)I;G01N21/31(2006.01)I;G01J3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 |
代理人 |
黄威;苏萌萌 |
主权项 |
一种倾斜结构体的制造方法,其包括:工序(a),在基板的上方形成牺牲膜;工序(b),形成第一膜,所述第一膜包括:与所述基板连接的第一部分、位于所述牺牲膜的上方的第二部分、和位于所述第一部分及所述第二部分之间的第三部分,并且,所述第三部分的一部分、或者在所述第二部分与所述第三部分的边界部分处,具有与所述第一部分相比膜厚较薄的区域;工序(c),去除所述牺牲膜;工序(d),在所述工序(c)之后,于所述膜厚较薄的区域处使所述第一膜弯曲,从而使所述第一膜的所述第二部分相对于所述基板而倾斜。 |
地址 |
日本东京 |