| 发明名称 | 具有改善的处理能力的等离子体系统 | ||
| 摘要 | 一种用于基底处理的等离子体系统包括：导电电极(b、bb)，在其上能够保持一个或多个基底(d)；第二导电电极(a)，与保持基底的电极相邻但分开地放置在远离保持基底的一侧的一侧上；和气体混合物散布喷头(e)，远离导电电极地放置在保持基底的一侧，以便以均匀的方式来供应用于处理基底所需要的气体混合物(f)；使得在保持基底的导电电极与第二导电电极之间激发并建立的等离子体位形包封保持基底的电极，远离通过喷头中的开口(ee)来激活并散布气体混合物的喷头，从而提供处理的均匀性、产出和可靠性的优点。 | ||
| 申请公布号 | CN101636813B | 申请公布日期 | 2013.02.27 |
| 申请号 | CN200880008256.X | 申请日期 | 2008.03.11 |
| 申请人 | 艾克斯特朗股份公司 | 发明人 | 肯尼思·B·K·蒂奥;纳林·L·鲁佩辛格 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 李芳华 |
| 主权项 | 一种用于基底处理的等离子体系统，包括：导电电极(bb)，在其上能够保持一个或多个基底(d)；第二导电电极(a)，与保持基底(d)的导电电极(bb)相邻但分开地放置在与保持基底(d)的一侧相反的一侧上；和气体混合物(f)散布喷头(e)，远离保持基底(d)的导电电极(bb)地放置在保持基底(d)的一侧，以便以均匀的方式来供应用于处理基底所需要的气体混合物(f)；使得在保持基底(d)的导电电极(bb)与第二导电电极(a)之间激发并建立的等离子体(c)包封保持基底(d)的导电电极(bb)，远离通过喷头(e)中的开口(ee)来激活并散布气体混合物的喷头(e)。 | ||
| 地址 | 德国黑措根拉特 | ||