发明名称 辐射源、光刻装置和器件制造方法
摘要 本发明公开了一种辐射源、光刻装置和器件的制造方法。一种包括阳极和阴极的辐射源,所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电,进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟、锂和/或锡。为提高热耗散,辐射源包括多个放电元件,每个放电元件只使用短的时间间隔,之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的EUV辐射脉冲的精确同步,辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率,辐射源设置为具有低感应系数,并运行在自触发的状态。
申请公布号 CN101795527B 申请公布日期 2013.02.20
申请号 CN201010003505.5 申请日期 2003.09.17
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 K·N·科塞勒夫;V·Y·班宁;V·V·伊范诺夫;E·R·基夫特;E·R·鲁普斯特拉;L·H·J·斯特文斯;Y·V·斯德科夫;V·G·科洛奇尼科夫;V·M·克里特森;R·R·加亚佐夫;O·W·V·弗里恩斯
分类号 H05G2/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H05G2/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种包含阳极和阴极的辐射源,所述阳极和阴极被构造和排列成在放电元件内在所述阳极和所述阴极之间的放电空间中的物质中产生放电,以形成等离子体,从而产生电磁辐射,其特征在于,所述辐射源包括多个放电元件,每个放电元件的至少一部分在所述放电元件中开始放电之前与一种液体接触,以使该液体覆盖所述放电元件的内表面。
地址 荷兰维尔德霍芬