发明名称 纳米流体二极管及其制造方法
摘要 本发明提供一种纳米流体二极管,包括支撑衬底、氧化物掩膜层以及纳米孔道;所述氧化物掩膜层覆盖于支撑衬底表面;在沿垂直支撑衬底与氧化物掩膜层接触面的方向,所述纳米孔道贯穿所述支撑衬底;所述纳米孔道表面具有一覆盖层,所述覆盖层与支撑衬底由不同的材料构成,利用支撑衬底与覆盖层异质结构界面中二维电子气形成的电荷分布,在覆盖层表面具有正电荷聚集;所述氧化物掩膜层具有一通孔,所述通孔贯穿所述氧化物掩膜层并与纳米孔道相通,所述氧化物掩膜层的通孔表面具有负电荷聚集。本发明纳米流体二极管及其制造方法制备工艺简单、易形成PN接触。
申请公布号 CN102923635A 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN201210415048.X 申请日期 2012.10.26
申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 弓晓晶;刘磊;邱永鑫;王子武;张锦平;王建峰;徐科
分类号 B81B1/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I 主分类号 B81B1/00(2006.01)I
代理机构 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人 翟羽
主权项 一种纳米流体二极管,包括支撑衬底、氧化物掩膜层以及纳米孔道; 所述氧化物掩膜层覆盖于支撑衬底表面; 在沿垂直支撑衬底与氧化物掩膜层接触面的方向,所述纳米孔道贯穿所述支撑衬底; 其特征在于,所述纳米孔道表面具有一覆盖层,所述覆盖层与支撑衬底由不同的材料构成,利用支撑衬底与覆盖层异质结构界面中二维电子气形成的电荷分布,在覆盖层表面具有正电荷聚集; 所述氧化物掩膜层具有一通孔,所述通孔贯穿所述氧化物掩膜层并与纳米孔道相通,所述氧化物掩膜层的通孔表面具有负电荷聚集。
地址 215125 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号