发明名称 |
纳米流体二极管及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种纳米流体二极管,包括支撑衬底、氧化物掩膜层以及纳米孔道;所述氧化物掩膜层覆盖于支撑衬底表面;在沿垂直支撑衬底与氧化物掩膜层接触面的方向,所述纳米孔道贯穿所述支撑衬底;所述纳米孔道表面具有一覆盖层,所述覆盖层与支撑衬底由不同的材料构成,利用支撑衬底与覆盖层异质结构界面中二维电子气形成的电荷分布,在覆盖层表面具有正电荷聚集;所述氧化物掩膜层具有一通孔,所述通孔贯穿所述氧化物掩膜层并与纳米孔道相通,所述氧化物掩膜层的通孔表面具有负电荷聚集。本发明纳米流体二极管及其制造方法制备工艺简单、易形成PN接触。 |
申请公布号 |
CN102923635A |
申请公布日期 |
2013.02.13 |
申请号 |
CN201210415048.X |
申请日期 |
2012.10.26 |
申请人 |
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
发明人 |
弓晓晶;刘磊;邱永鑫;王子武;张锦平;王建峰;徐科 |
分类号 |
B81B1/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81B1/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 |
代理人 |
翟羽 |
主权项 |
一种纳米流体二极管,包括支撑衬底、氧化物掩膜层以及纳米孔道; 所述氧化物掩膜层覆盖于支撑衬底表面; 在沿垂直支撑衬底与氧化物掩膜层接触面的方向,所述纳米孔道贯穿所述支撑衬底; 其特征在于,所述纳米孔道表面具有一覆盖层,所述覆盖层与支撑衬底由不同的材料构成,利用支撑衬底与覆盖层异质结构界面中二维电子气形成的电荷分布,在覆盖层表面具有正电荷聚集; 所述氧化物掩膜层具有一通孔,所述通孔贯穿所述氧化物掩膜层并与纳米孔道相通,所述氧化物掩膜层的通孔表面具有负电荷聚集。 |
地址 |
215125 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 |