发明名称 半导体结构
摘要 本实用新型是有关于一种半导体结构,其包含有载体以及多个混成凸块,该载体具有表面及多个凸块下金属层,上述混成凸块形成于上述凸块下金属层上,各该混成凸块具有芯部及接合部,该芯部具有顶面,该接合部包含有第一接合层及第二接合层,该第一接合层形成于该芯部的该顶面及该凸块下金属层,其中该第一接合层具有基底部、凸出部及容置空间,该基底部具有上表面,该凸出部凸出于该上表面,且该凸出部位于该芯部上方,该容置空间位于该凸出部外侧,该第二接合层覆盖该凸出部及该上表面且填充于该容置空间。
申请公布号 CN202736907U 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN201220380055.6 申请日期 2012.08.01
申请人 颀邦科技股份有限公司 发明人 郭志明;何荣华;张世杰;黄家晔;谢庆堂
分类号 H01L23/488(2006.01)I;H01L23/13(2006.01)I 主分类号 H01L23/488(2006.01)I
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人 寿宁;张华辉
主权项 一种半导体结构,其特征在于其至少包含:载体,其具有表面及多个形成于该表面的凸块下金属层;以及多个混成凸块,其形成于上述凸块下金属层上,各该混成凸块具有芯部及接合部,该芯部具有顶面,该接合部包含有第一接合层及第二接合层,该第一接合层形成于该芯部的该顶面及该凸块下金属层,其中该第一接合层具有基底部、凸出部及容置空间,该基底部具有上表面,该凸出部凸出于该上表面,且该凸出部位于该芯部上方,该容置空间位于该凸出部外侧,该第二接合层覆盖该凸出部及该上表面且填充于该容置空间,各该基底部具有第一高度,各该第二接合层具有第二高度。
地址 中国台湾台湾新竹科学工业园区新竹市东区力行五路3号
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