发明名称 | 镀膜设备的气体分配装置 | ||
摘要 | 一种镀膜设备的气体分配装置,包含:至少一个分配座,以及一个将气体引入该分配座的进气单元,该分配座包括至少一个第一分配通道、一个第二分配通道、数个连接该第一分配通道及第二分配通道的连通管,以及数个连通该第二分配通道的喷气道,所述进气单元包括一个具有一连接通道的连通座、至少一条连接该连接通道及第一分配通道的导通管,以及一条将气体引入该连接通道的进气管。当气体逐步通过连接通道、第一及第二分配通道时,不但可以均匀的分配,还可以避免气体在送出喷气道时产生波动、扰流。 | ||
申请公布号 | CN102912321A | 申请公布日期 | 2013.02.06 |
申请号 | CN201110217795.8 | 申请日期 | 2011.08.01 |
申请人 | 亚树科技股份有限公司 | 发明人 | 黄俊凯 |
分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人 | 张雅军 |
主权项 | 一种镀膜设备的气体分配装置,包含:至少一个分配座,以及一个将气体引入该分配座的进气单元,该分配座包括数个喷气道,而该进气单元包括一条引入气体的进气管;其特征在于:该分配座还包括至少一个第一分配通道、一个和所述喷气道连通的第二分配通道,以及数条连通该第一分配通道及第二分配通道的连通管,而该进气单元还包括一个具有一个和该进气管连通的连接通道的连通座,以及至少一条连接该连接通道及第一分配通道的导通管。 | ||
地址 | 中国台湾台南市 |