发明名称 形成复数个电容器之方法
摘要 本发明揭示一种形成复数个电容器之方法,其包含使用两个遮蔽步骤形成复数个个别电容器电极。该两个遮蔽步骤中之较早者系用来在复数个储存节点触点上方形成一第一开口阵列。该两个遮蔽步骤中之较晚者系用来形成部分地接纳于该第一开口阵列上方且与该第一开口阵列部分地偏离之一第二开口阵列。该等第一及第二开口之重叠部分接纳于该等储存节点触点上方。在该两个遮蔽步骤两者之后,将该等个别电容器电极之导电材料沈积至该等第一及第二开口中之每一者之该等重叠部分中。将该等个别电容器电极并入至复数个电容器中。涵盖其他态样及实施方案。
申请公布号 TWI384587 申请公布日期 2013.02.01
申请号 TW098121062 申请日期 2009.06.23
申请人 美光科技公司 美国 发明人 费许柏恩 弗莱德D
分类号 H01L21/8242;H01L21/822 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国