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发明名称
偏光膜生成用涂布液及偏光膜
摘要
本发明之偏光膜生成用涂布液包含:于波长400nm以上之可见光区域具有光吸收特性之溶致液晶化合物(A)、于波长400nm以上之可见光区域不具有光吸收特性或者光吸收特性小之溶致液晶化合物(B)、以及溶解上述溶致液晶化合物(A)与溶致液晶化合物(B)之溶剂。
申请公布号
TWI384267
申请公布日期
2013.02.01
申请号
TW097141864
申请日期
2008.10.30
申请人
日东电工股份有限公司 日本
发明人
井上彻雄;松田祥一;福留有希
分类号
G02B5/30;C09D7/12;C09D201/00;C09D5/32;C09K19/60
主分类号
G02B5/30
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
日本
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