一种调Q激光器

摘要

本实用新型涉及激光技术领域，公开了一种调Q激光器，包括泵浦源、泵浦耦合系统、激光增益介质、可饱和吸收体、激励源和激励耦合系统；所述泵浦源发出的泵浦光通过泵浦耦合系统耦合进入激光增益介质，被激光增益介质吸收；所述激励源发出的激励光通过激励耦合系统耦合进入可饱和吸收体，被可饱和吸收体吸收；所述泵浦光波长与激励光波长不一样，激光增益介质对泵浦光的吸收系数大于对激励光的吸收系数，可饱和吸收体对激励光的吸收系数大于对泵浦光的吸收系数。该结构增加LD激励源，从侧面或端面激励被动调Q晶体，通过激励源主动改变被动调Q晶体的透明时间来主动调节调Q时间和频率，有效提高了被动调Q激光器的重复频率。

主权项

一种调Q激光器，包括泵浦源、泵浦耦合系统、激光增益介质和可饱和吸收体，其特征在于：还包括一激励源和激励耦合系统；所述泵浦源发出的泵浦光通过泵浦耦合系统耦合进入激光增益介质，被激光增益介质吸收；所述激励源发出的激励光通过激励耦合系统耦合进入可饱和吸收体，被可饱和吸收体吸收；所述泵浦光波长与激励光波长不一样，激光增益介质对泵浦光的吸收系数大于对激励光的吸收系数，可饱和吸收体对激励光的吸收系数大于对泵浦光的吸收系数。