发明名称 METHOD OF FORMING LOW CAPACITANCE ESD DEVICE AND STRUCTURE THEREFOR
摘要 <p>In one embodiment, the ESD device uses highly doped P and N regions deep within the ESD device to form a zener diode that has a controlled breakdown voltage.</p>
申请公布号 HK1128821(A1) 申请公布日期 2013.01.25
申请号 HK20090106792 申请日期 2009.07.24
申请人 SEMICONDUCTOR COMPONENTS INDUSTRIES L.L.C. 发明人 THOMAS KEENA;KI CHANG;FRANCINE Y. ROBB;MINGJIAO LIU;ALI SALIH;JOHN MICHAEL PARSEY JR.;GEORGE CHANG
分类号 H01L 主分类号 H01L
代理机构 代理人
主权项
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