| 发明名称 | 使用分布式x射线源的成像装置 | ||
| 摘要 | 公开了一种成像装置。该成像装置包括多维组件，该多维组件还包括多个可单独寻址的x射线源。多个x射线源还可配置用来同时发射不同平均能量的x射线谱。此外，多维组件还包括多个x射线检测器，其被设置用来检测从至少一个x射线源发射的x射线中的至少一部分。 | ||
| 申请公布号 | CN101379392B | 申请公布日期 | 2013.01.23 |
| 申请号 | CN200780004081.0 | 申请日期 | 2007.01.23 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | C·里宾;P·K·巴赫曼;M·阿德里安斯;H·克龙;H·斯特格胡伊斯;H·尼科尔 |
| 分类号 | G01N23/04(2006.01)I;H01J35/06(2006.01)I;A61B6/03(2006.01)I | 主分类号 | G01N23/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 王英 |
| 主权项 | 一种组合模态成像系统(400)，包括：第一成像系统(405)，包括多维组件，该多维组件进一步包括：多个x射线源(120，220)，被设置为可单独寻址并且被配置用来同时发射不同平均能量的x射线谱；以及多个x射线检测器(130，230)，被设置用来检测从所述多个x射线源(120，220)中的x射线源(120，220)发射的x射线，所述多个x射线源和所述多个x射线检测器分布在所述多维组件上；以及第二成像系统(410)；其中所述第一成像系统(405)和所述第二成像系统(410)被设置用来对物体的特定区域(450)进行成像，并且其中所述第一成像系统(405)和所述第二成像系统(410)各自的源和检测器被内部混合。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||