| 主权项 |
1.一种制作具有许多孔径之全息光学元件的方法,该方法包括的步骤有:a)决定要成形于孔径边缘之堞的宽度与高度;b)选择要成形堞的孔径边缘;c)在所选择的边缘按步骤a)所决定的宽度与高度成形堞。2.根据申请专利范围第1项的方法,进一步包括的步骤有:a)增加具有粗图样的衍射光栅;b)决定要成形于粗图样中之堞的宽度与高度;c)选择要成形堞的孔径边缘;d)在粗图样中按步骤a)所决定的宽度与高度成形堞。3.根据申请专利范围第2项的方法,进一步包括增加具有比粗光栅之图样细的衍射光栅的附加步骤。4.根据申请专利范围第3项的方法,其中粗图样的间距可选择从40至45微米,细图样的间距可选择从13到15微米。5.根据申请专利范围第3项的方法,其中粗图样的间距是细图样的3倍。6.根据申请专利范围第4项的方法,其中粗图样的间距是细图样的3倍。7.一种光学定位系统,供移动具有关于第二单元之位置标记的第一单元,该系统包括:a)照明系统内光学路径的光源;b)放置许多光侦检器以接收从第一单元反射回的光;c)放置一透镜阵列,接收来自该相干光源的光,并将光导引至第一单元表面既定的标记其中之一;d)根据得自第一单元标记的信号,伺服系统反应第一单元位置标记所产生的资料,定出第一与第二单元的相对位置;以及e)在将光导引至第一单元之既定标记的光学路径中安置全息光学元件,它具有许多孔径,在既定的一或多个孔径边缘成形堞,俾能在所欲的目标位置产生空光能量。8.根据申请专利范围第7项的系统,其中决定全息光学元件孔径边缘堞形的宽度与高度,是意欲产生空光能量之位置的函数。9.根据申请专利范围第8项的系统,其中所提供的全息光学元件具有粗图样的衍射光栅。10.根据申请专利范围第9项的系统,其中该全息光学元件的粗图样被堞形化。11.根据申请专利范围第7项的系统,其中决定粗图样之堞形的宽度与高度是意欲产生空光能量之位置的函数。12.根据申请专利范围第11项的系统,其中所提供的全息光学元件具有细图样的衍射光栅。13.根据申请专利范围第7项的系统,其中所提供的全息光学元件具有粗图样的衍射光栅。14.根据申请专利范围第13项的系统,其中该全息光学元件中的粗图样被堞形化。15.根据申请专利范围第14项的系统,其中粗图样之堞形的宽度与高度,是按意欲产生空光能量的位置所决定。16.根据申请专利范围第15项的系统,其中所提供的全息光学元件具有细图样的衍射光栅。17.根据申请专利范围第9项的系统,其中所提供的全息光学元件具有细图样的衍射光栅。18.根据申请专利范围第13项的系统,其中所提供的全息光学元件具有细图样的衍射光栅。19.根据申请专利范围第17项的系统,其中粗图样的间距可选择从40至45微米,细图样的间距可选择从13到15微米。20.根据申请专利范围第17项的系统,其中粗图样的间距是细图样的3倍。21.根据申请专利范围第19项的系统,其中粗图样的间距是细图样的3倍。图式简单说明:第一图说明习知技术的资料储存磁碟机与包括全息光学元件的光学定位系统;第二图显示第一图之光学定位系统的光点图样与间距;第三图描绘伺服与资料轨的配置,以及典型极高密度磁碟片的尺寸;第四图A显示习知技术的全息光学元件,其中具有许多孔径;第四图B显示具有许多孔径的习知技术全息光学元件,每一个孔径内具有衍射光栅,衍射光栅内有细图样;第五图A显示光线通过习知技术之全息光学元件的长方形孔径后,入射到磁碟片表面目标区的光点图;第五图B显示光线通过本发明之全息光学元件堞形孔径后,入射到磁碟片表面目标区的光点图;第六图A描绘具有本发明的许多堞形边缘孔径及一细图样衍射光栅的全息光学元件;第六图B描绘具有本发明的许多堞形边缘孔径,一个粗图样衍射光栅,以及一个细图样衍射光栅的全息光学元件;第七图说明堞形的关键尺寸;以及第八图A、B、与C显示在高密度磁碟片表面上所产生的光点,所使用的全息光学元件孔径,分别是没有任何衍射光栅、没有堞形图样的粗光栅,以及有堞形粗图样的粗光栅。 |
