发明名称 一种SiO<sub>2</sub>纳米纤维束阵列的合成方法
摘要 本发明公开了一种SiO2纳米纤维束阵列的合成方法,属于纳米材料领域。该合成方法包括如下步骤:首先,按照一定的比例称取25-100微米左右大小的CaSi2、CuO、Si、FeSi粉末,并将其混合均匀,放入石墨反应钵中,然后将引火粉铺撒于混好的粉末上,用电子点火仪引燃,诱导其发生自蔓延反应;反应结束后,在反应产物的最上层即可获得SiO2纳米纤维束阵列。采用本发明方法来合成SiO2纳米纤维束阵列,工艺简单、设备要求低、生产效率高、成本低,所得SiO2纳米纤维束阵列具有很高的纯度和良好的品质,极具工业推广价值。
申请公布号 CN102502664B 申请公布日期 2013.01.23
申请号 CN201110355927.3 申请日期 2011.11.11
申请人 武汉大学 发明人 张国栋;刘念
分类号 C01B33/12(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C01B33/12(2006.01)I
代理机构 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人 汪俊锋
主权项 一种SiO2纳米纤维束阵列的合成方法,其特征在于:按照CaSi2粉10‑15%,CuO粉68‑78%,Si粉1‑20%,FeSi粉2‑6%的质量比,称取25‑100微米大小的CaSi2、CuO、Si、FeSi粉末,并将其混合均匀,放入石墨反应钵中,然后将引火粉铺撒于混好的粉末上,用电子点火仪引燃,诱导发生自蔓延反应;反应结束后,在反应产物的最上层即可获得SiO2纳米纤维束阵列;所述引火粉是25‑100微米大小,质量比分别为58%的KNO3、18%的Mg、20%的Al、4%的S的粉末混合物。
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