mÉtodo de fabricaÇço de um dispositivo semicondutor, dispositivo semicondutor e sistema de distribuiÇço de energia para aeronave

摘要

MÉTODO DE FABRICAÇçO DE UM DISPOSITIVO SEMICONDUTOR, DISPOSITIVO SEMICONDUTOR E SISTEMA DE DISTRIBUIÇçO DE ENERGIA PARA AERONAVE. Trata-se de um método de fabricação de um dispositivo semicondutor que compreende aplicar uma primeira camada (16) que compreende silicio a uma segunda camada (15) que compreende carboneto de silício, pelo qual uma interface é definida entre as primeira e segunda camadas, e ao oxidar parte ou toçia a primeira camada (16).