发明名称 藉由浮式法制备平面玻璃之方法及装置
摘要 本发明描述一种在制造具有至少600℃之转移温度之浮法玻璃中减少表面缺陷之方法,其中杂质在浮室中藉由在玻璃条带上流动的熔融金属而自玻璃条带表面移除,玻璃条带上的不欲扩散的熔融金属在不接触下受到限制,本发明亦描述进行此方法之装置及在离开浮室时具有每平方米至多3个大于35微米大小之表面缺陷(顶部斑点)之具有至少600℃之转移温度之浮法玻璃。
申请公布号 TWI379816 申请公布日期 2012.12.21
申请号 TW094132198 申请日期 2005.09.16
申请人 史考特公司 发明人 卡斯汀 史奇玛齐尔;阿靡 樊葛尔;福兰克 克莱特;克莉斯汀 库讷特;伯哈德 蓝格讷;安德斯 摩斯汀;安德斯 路特斯
分类号 C03B18/14 主分类号 C03B18/14
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种藉由浮式法制造具有至少600℃之转移温度之浮法玻璃之方法,其中在浮室内的熔融玻璃以无限条带形式沿着熔融金属浴前进,使玻璃条带冷却及固化,并将固化的玻璃条带自该浴分离,且其中在玻璃条带上侧的杂质系藉由在浮室内由液态金属组成的清洗液体处理玻璃条带之上侧而移除,其特征为,该清洗液体在该玻璃条带上之扩散特别藉由将气流吹于金属上或用电或电磁场或电流而在无接触下受到控制。如请求项1之方法,其特征为该清洗液体系于规则间隔更换。如请求项1或2之方法,其特征为该清洗液体系连续被送到该玻璃条带之表面。如请求项1至3之一或多项之方法,其特征为该清洗液体以玻璃条带运行方向及/或以其相反方向扩散之范围系经限制。如请求项1至4之一或多项之方法,其特征为限制该清洗液体扩散范围系相对于该玻璃条带之运行方向以0至45°、尤其0至15°之水平角达到。如请求项4或5之方法,其特征为限制该铺展系藉由迫使该清洗液体离开条杆之磁场而达到。如请求项1至6之一或多项之方法,其特征为额外给予该清洗液体流动剖面。如请求项1至7之一或多项之方法,其特征为该所用清洗液体为锡、铜、银、金、铅、铋、镓、铟、锗及此等金属之合金或其浮浴液体本身。一种在位于浮室中的熔融金属浮浴上制造为条带形式及具有至少600℃之转移温度之浮法玻璃之装置,其包括用于施加液态玻璃到该浮室一侧之构件、冷却该玻璃之构件及移除该浮室其他侧上之该固化玻璃条带之构件、其具备将由液态金属所组成之清洗液体送至存在于该浮浴上的该实质固化玻璃条带(1)上之进料装置(5,10)、自位于浮浴上的玻璃条带(1)移除该所用清洗液体之排泄装置(7)及在不接触下用于控制该清洗液体扩散出该玻璃条带之范围之气动或电或电机械构件。如请求项9之装置,其特征为防止该清洗液体过分扩散,在离该玻璃条带一段距离处,布置在该玻璃条带之整个宽度上延伸的液体限制器(9),该液体限制器可用于产生作用于该清洗液体之磁场。如请求项9之装置,其特征为防止该清洗液体过分扩散,在离该玻璃条带一段距离处,布置在该玻璃条带之整个宽度上延伸的液体限制器(9),该液体限制器可用于将气流导引于该清洗液体上。如请求项11之装置,其特征为该液体限制器(9)包括用开孔材料制成的条杆或具有孔,以使其能够在该玻璃条带和液体限制器之间产生气垫。如请求项10至12之装置,其特征为在不接触下用于控制该清洗液体在该玻璃条带上扩散之构件系布置于用于该清洗液体之该进料及排泄装置之区域中。如请求项10至12之装置,其特征为该液体限制器(9)和玻璃条带(1)间之距离系自1至10毫米。一种无硷金属之平面玻璃,其系藉由浮式法制造,且在1013分帕秒之黏度η具有至少600℃之转移温度,并在自该浮室出现时具有至多3个每平方米大于50微米大小之表面缺陷(顶部斑点)。如请求项15之平面玻璃,其特征为其具有至多3个每平方米大于35微米大小之表面缺陷如请求项15之平面玻璃,其特征为其具有至多3个每平方米大于20微米大小之表面缺陷如请求项15至17之至少一项之平面玻璃,其特征为其具有每平方米至多2个表面缺陷。如请求项15至18之至少一项之平面玻璃,其特征为其具有650至780℃、尤其700至730℃之转移温度。如请求项15至19之至少一项之平面玻璃,其特征为其具有小于1.5毫米、尤其0.2至0.9毫米之厚度。
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