发明名称 METHOD FOR PLACING A SEMICONDUCTOR WAFER ON A SUSCEPTOR AT A SPECIFIED ANGULAR ORIENTATION
摘要 <p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Ablegen einer Halbleiterscheibe auf einem Suszeptor mit einer vorgegebenen Winkelorientierung, umfassend folgende Schritte: a) Entnahme der Halbleiterscheibe mittels eines Roboterarms aus einer ersten Station, b) Ermittlung der aktuellen Winkelorientierung der Halbleiterscheibe, indem die Lage einer Markierung auf der Halbleiterscheibe mittels eines optischen Sensors detektiert wird, c) Festlegung, mit welcher Winkelorientierung die Halbleiterscheibe auf einem in einer Prozesskammer befindlichen, um seine Mittelachse drehbar gelagerten Suszeptor abzulegen ist, d) Transfer der Halbleiterscheibe mittels des Roboterarms zu der Prozesskammer, e) Drehen des Suszeptors um seine Mittelachse in eine Position, die nachfolgend in Schritt f) zum Ablegen der Halbleiterscheibe mit der vorgegebenen Winkelorientierung führt und f) Ablegen der Halbleiterscheibe auf dem Suszeptor.</p>
申请公布号 WO2012163676(A1) 申请公布日期 2012.12.06
申请号 WO2012EP59092 申请日期 2012.05.16
申请人 SILTRONIC AG;HECHT, HANNES;AIGNER, ALOIS 发明人 HECHT, HANNES;AIGNER, ALOIS
分类号 H01L21/68;H01L21/67 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人
主权项
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