发明名称 透光性导电膜、透光性电磁波屏蔽膜、滤光器和制造显示过滤器的方法
摘要 一种透光性导电膜,其通过在透明支持体上图案化导电金属部和可见光透过部而形成,其中所述导电金属部由尺寸1μm-40μm的形成网状的细线构成,所述网状图案连续3m或更长。一种制造显示过滤器的方法,其中彼此相对的至少两个面的端部是网状,所述方法包括使用电磁波屏蔽材料(C),其中在聚合物薄膜(A)的一面上沿聚合物薄膜(A)的机械加工方向连续形成具有几何图案的网状导电部的导电层(B),和切割所述网状导电部。
申请公布号 CN101120626B 申请公布日期 2012.11.28
申请号 CN200680005054.0 申请日期 2006.02.15
申请人 富士胶片株式会社 发明人 冈崎贤太郎;森本哲光;冈村友之;北河敏久;诸桥慎;伊藤智章;南裕巳
分类号 H05K9/00(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;G09F9/00(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I 主分类号 H05K9/00(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 于辉
主权项 一种制造透光性导电膜的方法,所述方法包括在弯曲的曝光台上输送透明支持体的同时用激光束扫描曝光所述透明支持体;以及形成网状图案,其包括:由尺寸1μm‑40μm的形成网状的细线构成的导电金属部和可见光透过部,并连续3m或更长,其中,在使所述光束相对于输送方向倾斜角度30°‑60°时进行所述扫描。
地址 日本东京都
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