| 发明名称 | 用于在玻璃板上沉积半导体材料的设备 | ||
| 摘要 | 一种用于在玻璃板上沉积半导体材料的设备，包括至少一个真空室，所述真空室包括用于在一块或多块玻璃板上沉积半导体材料的装置和用于在所述真空室内部传送所述玻璃板的传送装置；所述传送装置与所述玻璃板的经受导体材料沉积的表面一起形成了连续平面。 | ||
| 申请公布号 | CN102804357A | 申请公布日期 | 2012.11.28 |
| 申请号 | CN201180013855.2 | 申请日期 | 2011.02.24 |
| 申请人 | 斯特拉尔有限责任公司 | 发明人 | M·隆奇 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01)I;B65G49/06(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/677(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 秦振 |
| 主权项 | 一种用于在玻璃板上沉积半导体材料的设备，包括至少一个真空室，所述真空室包括用于在一块或多块玻璃板上沉积半导体材料的沉积装置和用于在所述真空室内部传送所述玻璃板的传送装置，其特征在于，所述传送装置与所述玻璃板的经受导体材料沉积的表面一起构成了连续平面。 | ||
| 地址 | 意大利布雷西亚 | ||