发明名称 |
磁记录介质处理装置 |
摘要 |
本发明涉及一种磁记录介质处理装置,其特征在于,包括:与磁记录介质接触而进行磁性数据的读取/写入的磁头;与所述磁头相对设置、使所述磁记录介质与所述磁头接触的对置构件;以及保持所述对置构件、将该对置构件固定在使用位置且将所述对置构件移动到退避位置使所述磁头的接触面露出的保持构件,所述保持构件在一端具有使所述对置构件转动的转动轴,在与该转动轴相反的一侧的另一端上具有锁定构件。本发明的磁记录介质处理装置能容易地进行磁头的接触面的检修和清扫作业。 |
申请公布号 |
CN101964193B |
申请公布日期 |
2012.11.28 |
申请号 |
CN201010237874.0 |
申请日期 |
2006.08.30 |
申请人 |
日本电产三协株式会社 |
发明人 |
山中信幸 |
分类号 |
G11B5/48(2006.01)I;G11B5/41(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/48(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
胡晓萍 |
主权项 |
一种磁记录介质处理装置,其特征在于,包括:与磁记录介质接触而进行磁性数据的读取/写入的磁头;与所述磁头相对设置、使所述磁记录介质与所述磁头接触的对置构件;以及保持所述对置构件、将该对置构件固定在使用位置且将所述对置构件移动到退避位置使所述磁头的接触面露出的保持构件,所述保持构件在一端具有使所述对置构件转动的转动轴,在与该转动轴相反的一侧的另一端上具有锁定构件。 |
地址 |
日本长野县 |