发明名称 | 具有减少的浸没液蒸发效应的光学成像 | ||
摘要 | 本发明涉及用于光学成像方法的光学布置,其包含光学元件(108)、浸没区(109)和液体排斥装置(111)。在光学成像方法过程中,浸没区与光学元件相邻并用浸没液(109.1)填充。该光学元件具有第一表面区域(108.1)和第二表面区域(108.2),第一表面区域在光学成像方法过程中被该浸没液润湿。液体排斥装置至少暂时地在光学成像方法过程中在第二表面的区域中产生电场,电场适配成在浸没液的响应于电场并非故意地接触第二表面区域的部分上引起排斥力。该排斥力具有将浸没液的该部分从第二表面区域驱离的方向。 | ||
申请公布号 | CN102804071A | 申请公布日期 | 2012.11.28 |
申请号 | CN201080028972.1 | 申请日期 | 2010.05.04 |
申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | S.西克斯 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
主权项 | 一种用于光学成像方法的光学布置,包括:‑光学元件,‑浸没区,和‑液体排斥装置;‑在所述光学成像方法过程中,所述浸没区的位置与所述光学元件相邻并用浸没液填充;‑所述光学元件具有第一表面区域和第二表面区域;‑所述第一表面区域在所述光学成像方法过程中被所述浸没液润湿;其中‑所述液体排斥装置在所述光学成像方法过程中至少暂时地在所述第二表面的区域中产生电场;‑所述电场适配成在所述浸没液的部分上引起排斥力,所述浸没液的部分响应于所述电场且非故意地接触所述第二表面区域;‑所述排斥力具有将所述浸没液的所述部分从所述第二表面区域驱离的方向。 | ||
地址 | 德国上科亨 |