发明名称 |
等离子体监测系统 |
摘要 |
本发明涉及一种用于检测蚀刻工序等的结束点以及腔室内产生的电弧的电弧检测系统。该系统包括:与腔室连接的光谱仪;与腔室连接的电弧传感器;以及与所述光谱仪和所述电弧传感器连接的检测和控制模块。其中,所述检测和控制模块分析从所述光谱仪传输的OES数据而检测出结束点,分析从所述电弧传感器传输的电弧感知结果而检测出所述腔室内产生的电弧。 |
申请公布号 |
CN102788916A |
申请公布日期 |
2012.11.21 |
申请号 |
CN201210147714.6 |
申请日期 |
2012.05.11 |
申请人 |
塞米西斯科株式会社 |
发明人 |
李淳钟;禹奉周;郑载勋;金学权;姜志澔 |
分类号 |
G01R31/00(2006.01)I;G01N21/73(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I |
主分类号 |
G01R31/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种电弧检测系统,其特征在于,包括:观察口,其与腔室直接结合;可视光转换部,其与所述观察口结合,将所述腔室内因电弧引起而产生的电弧光,的紫外线或红外线转换成可视光线;光纤,其与所述观察口连接,已转换的所述可视光线由所述光纤通过;以及电弧传感器,其与所述光纤连接,对通过所述光纤传输的可视光线进行检测。 |
地址 |
韩国京畿道 |