发明名称 一种电路工艺中的等离子体技术
摘要 本发明涉及一种电路工艺中的等离子体技术。其主要内容为低温放电等离子体理论、等离子体的整体均匀性及稳定性的理论研究及模拟计算、带电粒子在鞘层中的输运性质及等离子体加工工艺的过程控制。
申请公布号 CN102789511A 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN201110132633.4 申请日期 2011.05.20
申请人 张灵芝 发明人 张灵芝
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种电路工艺中的等离子体技术
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