发明名称 灯杯磁控溅射镀膜及表面真空硬化保护层连续生产工艺
摘要 本发明涉及灯杯反射膜的镀膜方法,公开了一种灯杯磁控溅射镀膜及表面真空硬化保护层连续生产工艺,其依次包括以下步骤:将待镀灯杯送入“大气真空过渡室”抽真空;再送入“低真空高真空过渡室”抽真空;再送入“真空室”的“首缓冲区”,充入氩气,抽真空至2.5~3.0×10-1帕;再至少一次通过装有铝靶的“真空室”的“镀膜区”,进行磁控溅射镀膜;达到所需厚度后,再送入“真空室”的“后缓冲区”;再送入“高真空低真空过渡室”,充入雾化的反射膜抗氧化材料,抽真空至5帕,停留3-4分钟,形成硬化保护层;再送入“真空大气过渡室”,完成镀膜。本发明使反射膜厚薄均匀且稳定,界面附着力高,反光率达到85%以上。
申请公布号 CN102776482A 申请公布日期 2012.11.14
申请号 CN201210230455.3 申请日期 2012.07.03
申请人 浦江县名亿真空镀膜厂 发明人 姚荣斌
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 代理人 张宇娟
主权项 灯杯磁控溅射镀膜及表面真空硬化保护层连续生产工艺,其特征在于:依次包括以下步骤:灯杯磁控溅射镀膜及表面真空硬化保护层连续生产工艺,依次包括以下步骤:a.将待镀灯杯送入“大气真空过渡室”,抽真空至5帕;b.将待镀灯杯送入“低真空高真空过渡室”,抽真空至5×10‑2帕;c.将待镀灯杯送入“真空室”的“首缓冲区”,充入氩气,抽真空至2.5×10‑1帕~3.0×10‑1帕;d.将待镀灯杯至少一次通过上方装有两套80kw直流磁控溅射铝靶的“真空室”的“镀膜区”,进行磁控溅射镀反射膜;e.反射膜达到所需厚度后,将已镀反射膜灯杯送入“真空室”的“后缓冲区”;f.将已镀反射膜灯杯送入“高真空低真空过渡室”,充入雾化的反射膜抗氧化材料,抽真空至5帕,停留3‑4分钟,使雾化的反射膜抗氧化材料附着于反射膜表面形成硬化保护层;g.硬化保护层达到所需厚度后,将已镀保护层灯杯送入“真空大气过渡室”,充入大气,完成镀膜。
地址 322200 浙江省金华市浦江县浦南街道平一村新店47号