一种用于离子注入的激光辅助装置及其使用方法

摘要

本发明属于半导体制造装置和方法技术领域，特别涉及一种用于离子注入的激光辅助装置及其使用方法。本发明在离子注入机外部设置激光器，通过透明窗射入到离子注入机内部，又经过透明窗内侧设置的激光反射镜作用，射至晶圆片表面，激光光束的截面积大于离子注入束，离子注入束包含在激光光束中，两个加工束同时施加到晶圆片表面，进行离子注入。本发明在原有离子注入机的基础上，添加外部激光器和部分光学部件，所实施的改动量小，方便实现；相对于辅助加热的方式，激光束对于晶圆片的作用是局部的，仅是处理离子束的注入处，能源的使用效率高；此外，通过采取挡板，可以保护离子注入机内的传感器等关键性的部件，这一点传统的加热方式无法实现。

主权项

一种用于离子注入的激光辅助装置，其特征在于：在离子注入机的真空腔室外部设置激光器（7）；在离子注入机侧壁（10）上设置透明窗（8），使激光器（7）发射出的激光光束能通过透明窗（8）进入离子注入机内部；在透明窗（8）内侧设置激光反射镜（9），改变激光光束入射方向，使其照射到所要加工的晶圆片（5）表面；在离子注入机内各处传感器（3）周围设置挡板（6）用以遮挡激光光束，使激光光束不能从挡板（6）上部照射到传感器（3）而影响传感器（3）的正常工作。