发明名称 |
一种光谱测量装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种光谱测量装置,包括入射狭缝、色散元件和成像元件等光学元件,在光学元件表面镀有光谱选择性薄膜,光谱选择性薄膜的选择波段与光谱测量装置的测量波段相对应,镀有光谱选择性薄膜的光学元件仅能出射薄膜选择波段内的光线,而大幅衰减光路中其他波长的光线,从而大幅降低光学系统的杂散光水平。 |
申请公布号 |
CN202522321U |
申请公布日期 |
2012.11.07 |
申请号 |
CN201220163603.X |
申请日期 |
2012.04.18 |
申请人 |
杭州远方光电信息股份有限公司 |
发明人 |
潘建根 |
分类号 |
G01J3/28(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I |
主分类号 |
G01J3/28(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种光谱测量装置,包括入射狭缝(1)、色散元件(2)和一个或多个成像元件(3),光线从入射狭缝(1)进入光谱测量装置,经色散元件(2)分光后,成像元件(3)将色散光会聚成像,其特征在于,在成像元件(3)的表面镀有光谱选择性薄膜(4),所述的光谱选择性薄膜(4)的选择波段与光谱测量装置的测量波段相对应。 |
地址 |
310053 浙江省杭州市滨江区滨康路669号 |