发明名称 PASTE COMPOSITION FOR ETCHING AND DOPING
摘要 <p>An etching paste having a doping function for etching a thin film on a silicon wafer and a method of forming a selective emitter of a solar cell, the etching paste including an n-type or p-type dopant; a binder; and a solvent.</p>
申请公布号 KR101194064(B1) 申请公布日期 2012.10.24
申请号 KR20090050463 申请日期 2009.06.08
申请人 发明人
分类号 C09K13/00 主分类号 C09K13/00
代理机构 代理人
主权项
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