发明名称 溅镀机
摘要 本发明公开了一种溅镀机,该溅镀机适于承载一玻璃基板以对玻璃基板进行溅镀制程。此溅镀机包括一溅镀腔室、一阴极、一基板载台以及多个固定结构。溅镀腔室具有一开口。阴极位于溅镀腔室内,并且上述的开口暴露出阴极。基板载台包括一底座以及一承载盘。底座覆盖溅镀腔室的开口。承载盘位于底座与阴极之间。承载盘具有一粗糙面,此粗糙面面向阴极,并且粗糙面的中心线平均粗糙度介于4微米至8微米之间。固定结构自粗糙面突出,用以将玻璃基板固定于粗糙面与阴极之间。
申请公布号 CN102747331A 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN201210229052.7 申请日期 2012.07.02
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 黄宇庆
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;李岩
主权项 一种溅镀机,适于承载一玻璃基板以对该玻璃基板进行溅镀制程,其特征在于,该溅镀机包括:一溅镀腔室,具有一开口;一阴极,位于该溅镀腔室内,并且该开口曝露出该阴极;一基板载台,包括:一底座,覆盖该开口;以及一承载盘,位于该底座与该阴极之间,该承载盘具有一粗糙面,该粗糙面面向该阴极,该粗糙面的中心线平均粗糙度介于4微米至8微米之间;以及多个固定结构,自该粗糙面突出,用以将该玻璃基板固定于该粗糙面与该阴极的间。
地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号