发明名称 光学特性测量装置
摘要 本发明公开了一种光学特性测量装置。该光学特性测量装置在多个评估面上获取与被检测的光学系统的图像特性有关的测量值,并且测量光学特性,该光学特性测量装置包括测量值校正单元,其校正评估面上的与射束的线扩散分布和点扩散分布中的一个的宽度或光强度有关的测量值,其中,在测量值与宽度有关的情况下,像面被视为评估基准面,并且,测量值校正单元输出校正值;在测量值与光强度有关的情况下,像面被视为评估基准面,并且,测量值校正单元也输出校正值,并且,基于校正值测量被检测的光学系统的光学特性。
申请公布号 CN102735427A 申请公布日期 2012.10.17
申请号 CN201210094553.9 申请日期 2012.04.01
申请人 佳能株式会社 发明人 安藤利典
分类号 G01M11/02(2006.01)I 主分类号 G01M11/02(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 康建忠
主权项 一种光学特性测量装置,该光学特性测量装置在通过被检测的光学系统导致的物体的像面的附近的多个评估面上获取与被检测的光学系统的图像特性有关的测量值,并且基于各测量值测量被检测的光学系统的光学特性,该光学特性测量装置包括:测量值校正单元,该测量值校正单元校正所述多个评估面上的与通过被检测的光学系统导致的射束的线扩散分布和点扩散分布中的一个的宽度或光强度有关的测量值,其中,在测量值与射束的线扩散分布和点扩散分布中的一个的宽度有关的情况下,所述像面被视为评估基准面,并且,测量值校正单元输出校正值,使得当评估面与评估基准面相比接近被检测的光学系统时,测量值根据接近量增加,并且当评估面与评估基准面相比移动离开被检测的光学系统时,测量值根据移动离开量减小;在测量值与射束的线扩散分布和点扩散分布中的一个的光强度有关的情况下,所述像面被视为评估基准面,并且,测量值校正单元输出校正值,使得当评估面与评估基准面相比接近被检测的光学系统时,测量值根据接近量减小,并且,当评估面与评估基准面相比移动离开被检测的光学系统时,测量值根据移动离开量增加,并且,基于与测量值相比具有提高的对称性的校正值测量被检测的光学系统的光学特性。
地址 日本东京