发明名称 | 通过硼和磷的共扩散制造晶体硅太阳能电池的方法 | ||
摘要 | 本发明涉及用于制造晶体硅太阳能电池的方法,其包括:提供晶体硅基底,其具有第一面及与所述第一面相反的第二面;使磷预扩散进入所述基底的所述第一面,以产生具有初始深度的磷扩散层;封闭所述基底的所述第一面;将所述基底的所述第二面暴露至硼扩散源;加热所述基底至一定温度一段时间,从而使硼扩散进入所述基底的所述第二面,同时使所述磷进一步扩散进入所述基底。 | ||
申请公布号 | CN101919070B | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
申请号 | CN200880124127.7 | 申请日期 | 2008.11.13 |
申请人 | 荷兰能源建设基金中心 | 发明人 | V·D·米哈伊利奇;Y·科马特苏 |
分类号 | H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 过晓东 |
主权项 | 用于制造晶体硅太阳能电池的方法,其包括:‑提供晶体硅基底,其具有第一面及与所述第一面相反的第二面;‑使磷预扩散进入所述基底的所述第一面,以产生具有初始深度的磷扩散层;‑封闭所述基底的所述第一面;‑将所述基底的所述第二面暴露至硼扩散源;‑加热所述基底至一定温度一段时间,从而使硼扩散进入所述基底的所述第二面,同时使所述磷进一步扩散进入所述基底。 | ||
地址 | 荷兰佩滕 |