发明名称 |
用于调节在主动冷却的构件内的冷却剂消耗的方法和构件 |
摘要 |
本发明涉及一种用于调节在主动冷却的构件内的冷却剂消耗的方法和构件。本发明涉及一种用于调节在空心构件(1、120、130)内的介质的流量的方法,所述构件在内部具有至少一个带有不同的区域(4、7)的通道(10),所述区域(4、7)具有不同的流动横截面,其中,在带有较小的流动横截面的所述区域(7)中,通过第一扩散覆层过程来调节较大的壁增厚,并且在带有较大的流动横截面的区域(4)中,尤其通过不同于所述第一扩散覆层过程的第二扩散覆层过程来调节较小的壁增厚。此外,本发明还涉及一种尤其根据上述方法制造的空心构件,所述空心构件在内部覆铝并且在所述内部中具有带有不同的覆铝的层厚度的区域(4、7)。 |
申请公布号 |
CN102720544A |
申请公布日期 |
2012.10.10 |
申请号 |
CN201210014782.5 |
申请日期 |
2012.01.17 |
申请人 |
西门子公司 |
发明人 |
法蒂·艾哈迈德;克努特·哈尔贝斯塔特;克里斯蒂安·勒纳 |
分类号 |
F01D5/18(2006.01)I;F01D5/28(2006.01)I;C23C14/00(2006.01)I |
主分类号 |
F01D5/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
张春水;田军锋 |
主权项 |
用于调节在空心构件(1、120、130)内的介质的流量的方法,所述构件在内部具有至少一个带有不同的区域(4、7)的通道(10),所述区域(4、7)具有不同的流动横截面,其中,在带有较小的流动横截面的所述区域(7)中,通过第一扩散覆层过程来调节较大的壁增厚,并且在带有较大的流动横截面的区域(4)中,尤其通过不同于所述第一扩散覆层过程的第二扩散覆层过程来调节较小的壁增厚。 |
地址 |
德国慕尼黑 |