| 发明名称 | 一种光刻方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻方法和设备，方法包括：对基板上将要进行光刻胶涂覆的表面的边缘位置进行疏水处理；对经过疏水处理的基板表面涂覆亲水性光刻胶。通过本发明，能够大大减少边缘除胶过程中溶剂的用量，从而降低生产成本，提高产能。 | ||
| 申请公布号 | CN102722084A | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
| 申请号 | CN201110080114.8 | 申请日期 | 2011.03.31 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 周伟峰;薛建设 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人 | 蒋雅洁;程立民 |
| 主权项 | 一种光刻方法，其特征在于，该方法包括：对基板上将要进行光刻胶涂覆的表面的边缘位置进行疏水处理；对经过疏水处理的基板表面涂覆亲水性光刻胶。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||