用于光刻术模型校准的图案选择

摘要

本发明主要涉及用于光刻模型校准的图案选择的方法和设备。根据一些方面，本发明的图案选择算法可以被应用于任何已有的候选测试图案池。根据一些方面，本发明自动地选择这些测试图案，其能够更有效地由已有的候选测试图案池来确定优化的模型参数值，如与设计优化图案相反。根据另外的方面，根据本发明的已选择的测试图案组能够激发模型公式中的所有已知的物理和化学特性，确保测试图案的晶片数据可以将模型校准推动成优化的参数值，其实现了由模型公式施加的预测精度的上边界。

主权项

一种用于计算光刻术模型校准的测试图案选择的方法，包括步骤：识别候选的测试图案池；识别光刻模型参数组；和自动地从所述候选测试图案池中选择一组测试图案，其能够最有效地确定已识别的模型参数的优化值，其中所述测试图案被选择成使得每个测试图案对一个或更多个特定的模型参数敏感且不同的模型参数的作用能够被清楚地区别，其中，自动选择的步骤包括：准备对应于已识别的测试图案池和模型参数的灵敏度矩阵；使用所述灵敏度矩阵执行计算，以确定已识别的测试图案中的哪一个对已识别的模型参数具有最大的灵敏度；和将已确定的测试图案添加到已选择的测试图案组。