溅射设备

摘要

本实用新型提供一种溅射设备，包括成膜腔体、载片结构、传输结构以及用于完成溅射的溅射装置，所述载片结构包括相对设置的第一承载板和第二承载板，所述第一承载板和所述第二承载板之间设置有磁屏蔽板；所述载片结构装设于传输结构上，所述传输结构用于传输所述载片结构；所述溅射装置包括第一溅射装置和第二溅射装置，第一溅射装置设置于成膜腔体的第一内壁上，所述第二溅射装置设置于与第一内壁相对的第二内壁上。本实用新型提供的溅射设备，可以一次传输两片基板进行溅射镀膜，由此提高了溅射镀膜产线的生产效率，降低了耗能。

主权项

一种溅射设备，包括成膜腔体、载片结构、传输结构、用于完成溅射的溅射装置、真空系统和气氛控制系统，其特征在于，所述载片结构包括相对设置的第一承载板和第二承载板，所述第一承载板和所述第二承载板之间设置有磁屏蔽板，所述载片结构装设于传输结构上，所述传输结构用于传输所述载片结构，所述溅射装置包括第一溅射装置和第二溅射装置，第一溅射装置设置于成膜腔体的第一内壁上，所述第二溅射装置设置于与第一内壁相对的第二内壁上，所述第一溅射装置与第一承载板相对，所述第二溅射装置与第二承载板相对。