发明名称 |
一种超支化改性分子印迹聚合物及其应用 |
摘要 |
本发明涉及分子印迹技术领域,特别涉及一种超支化改性分子印迹聚合物,包括模板分子、功能单体、交联剂、引发剂、催化剂、超支化聚合物,、超支化聚合物为经丙烯酸改性的超支化聚胺酯。超支化改性分子印迹聚合物在微流控芯片中的应用:将微流控芯片在氧气氛中氧化;将微流控芯片的微通道使用γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷改性;将超支化改性分子印迹聚合物注入PDMS微流控芯片的微通道内,60℃水浴中反应4h。将超支化聚合物应用于改性分子印迹聚合物可以提高分子印迹聚合物对模板分子的吸附能力,解决单纯使用分子印迹聚合物改性芯片不能完全拆分手性氨基酸的问题,也可以解决分子印迹聚合物与PDMS微流控芯片微通道内壁接枝的问题。 |
申请公布号 |
CN102702447A |
申请公布日期 |
2012.10.03 |
申请号 |
CN201210213605.X |
申请日期 |
2012.06.27 |
申请人 |
济南大学 |
发明人 |
寿崇琦;刘冰 |
分类号 |
C08F290/06(2006.01)I;C08F220/06(2006.01)I;C08F222/14(2006.01)I;C08J9/26(2006.01)I;C08G83/00(2006.01)I;C08J7/12(2006.01)I;C08L83/04(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I;C07B57/00(2006.01)I;C07D209/20(2006.01)I |
主分类号 |
C08F290/06(2006.01)I |
代理机构 |
济南泉城专利商标事务所 37218 |
代理人 |
李桂存 |
主权项 |
一种超支化改性分子印迹聚合物,其特征是由模板分子、功能单体、交联剂、引发剂、催化剂和端羟基超支化聚合物组成。 |
地址 |
250022 山东省济南市市中区济微路106号 |